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SAMCO UV-1 紫外臭氧清洗機(jī)登陸中國 賦能半導(dǎo)體先進(jìn)制造

更新時(shí)間:2026-03-20      瀏覽次數(shù):73
近日,日本半導(dǎo)體精密處理設(shè)備制造商SAMCO旗下核心產(chǎn)品——UV-1紫外光臭氧清洗機(jī)正式登陸國內(nèi)市場,面向半導(dǎo)體科研院所、高校實(shí)驗(yàn)室及中小規(guī)模制造企業(yè)供貨,憑借專屬干式溫和清洗技術(shù),精準(zhǔn)適配第三代半導(dǎo)體、MEMS器件、封裝等領(lǐng)域的高精度基板處理需求,彌補(bǔ)了國內(nèi)細(xì)分領(lǐng)域無損傷精密清洗設(shè)備的市場空白,為半導(dǎo)體制程升級(jí)提供了高效可靠的前置處理方案。

核心技術(shù)突破:常壓干式協(xié)同清洗,摒棄傳統(tǒng)工藝弊端

在半導(dǎo)體器件全制程中,基板表面有機(jī)殘留、光刻膠殘跡、塑封膠雜質(zhì)等微量污染物,直接決定后續(xù)鍍膜、鍵合、刻蝕工序的良率與產(chǎn)品穩(wěn)定性,傳統(tǒng)清洗工藝存在明顯短板:濕法清洗易造成離子殘留、液體污染與基板靜電損傷,真空等離子清洗則需配套復(fù)雜真空系統(tǒng),運(yùn)維成本高、操作流程繁瑣,不適用于研發(fā)與小批量場景。SAMCO UV-1創(chuàng)新性采用185nm/254nm雙波段紫外光激發(fā)、臭氧原位氧化、臺(tái)面精準(zhǔn)加熱三重技術(shù)協(xié)同,全程在常壓環(huán)境下運(yùn)行,無需真空設(shè)備與化學(xué)清洗溶劑,實(shí)現(xiàn)純干式無損傷清洗。185nm紫外光高效激發(fā)空氣中氧氣生成高濃度臭氧,254nm紫外光精準(zhǔn)打斷有機(jī)分子化學(xué)鍵,配合可控加熱臺(tái)面催化加速,雙重作用下將有機(jī)污染物礦化為二氧化碳與水蒸氣揮發(fā)排出,從根源上規(guī)避傳統(tǒng)工藝缺陷,同時(shí)機(jī)身設(shè)計(jì)緊湊,配潔凈室、實(shí)驗(yàn)室等有限空間,安裝便捷、運(yùn)維門檻極低。

產(chǎn)品性能詳解:寬范圍適配,兼具清洗與改性雙重功能

SAMCO UV-1性能參數(shù)貼合中小批量研發(fā)與試產(chǎn)需求,可處理4英寸晶圓及φ100mm規(guī)格基板,兼容材料范圍極廣,覆蓋單晶硅片、SiC/GaN/GaAs/InP第三代化合物半導(dǎo)體、藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃、精密陶瓷、金屬引線框架等各類敏感材質(zhì)。設(shè)備核心優(yōu)勢不止于基礎(chǔ)清洗,除高效完成光刻膠灰化、有機(jī)雜質(zhì)剝離、塑封殘膠去除等常規(guī)工序外,還可通過精準(zhǔn)調(diào)控紫外照射時(shí)長與臺(tái)面溫度,實(shí)現(xiàn)基板表面親水性改性、可控超薄氧化層制備,大幅提升后續(xù)薄膜沉積、引線鍵合的附著力與工藝穩(wěn)定性,實(shí)現(xiàn)清洗與功能改性一體化。安全設(shè)計(jì)方面,設(shè)備配備全套合規(guī)防護(hù)體系,上蓋安全連鎖實(shí)現(xiàn)開蓋即停,搭配自動(dòng)氮?dú)獯祾呦到y(tǒng)快速清除殘留臭氧,內(nèi)置專用臭氧分解裝置確保尾氣達(dá)標(biāo)排放,輔以加熱過載保護(hù)與緊急制動(dòng)按鈕,保障操作人員安全與潔凈室環(huán)境合規(guī)。

產(chǎn)業(yè)適配價(jià)值:貼合國內(nèi)需求,助力半導(dǎo)體制程升級(jí)

當(dāng)下國內(nèi)第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展,SiC、GaN等寬禁帶材料規(guī)?;瘧?yīng)用,對(duì)前置清洗的無損傷、高精度要求持續(xù)提升,SAMCO UV-1憑借溫和無損傷、高效便捷、性價(jià)比高、安全合規(guī)的核心特性,恰好匹配國內(nèi)科研與小批量生產(chǎn)的實(shí)際需求。相較于同類型進(jìn)口真空清洗設(shè)備,這款設(shè)備無需專業(yè)運(yùn)維人員,開機(jī)即可操作,運(yùn)行穩(wěn)定且故障率低,既能滿足科研端樣品測試需求,也能適配企業(yè)小規(guī)模量產(chǎn),大幅降低設(shè)備投入與使用成本。此次SAMCO UV-1正式入華,不僅為國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈提供了優(yōu)質(zhì)的精密清洗解決方案,更助力相關(guān)科研機(jī)構(gòu)與企業(yè)優(yōu)化制程工藝、提升產(chǎn)品良率,進(jìn)一步推動(dòng)國內(nèi)第三代半導(dǎo)體、封裝等核心領(lǐng)域的技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)升級(jí),成為精密電子清洗領(lǐng)域的優(yōu)選緊湊型設(shè)備。


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