日本armssystem無掩模曝光高分辨率顯微鏡 UTA系列 特點介紹

我們的“無掩模曝光設(shè)備/顯微鏡 LED 曝光裝置 UTA 系列"被用于主要由名古屋大學的 Minoru Osada 教授進行的一些研究。

?顯微鏡LED曝光裝置UTA系列是無需掩模的光刻用圖案投影曝光裝置。（無掩模曝光設(shè)備）

?使用金相顯微鏡和帶LED光源的DLP投影儀，將分辨率為數(shù)微米的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上并進行曝光。

- 可以在計算機上自由創(chuàng)建圖案。

?它比電子束光刻便宜得多，也更簡單，因為電極可以在大氣中形成在各種尺寸和形狀的層狀材料的單晶薄片上。無需創(chuàng)建昂貴的電極圖案掩模。（如果幾微米的分辨率就足夠了）

日本armssystem無掩模曝光高分辨率顯微鏡 UTA系列 規(guī)格參數(shù)

薄膜 FET 和霍爾效應測量樣品的電極形成

形成電極以去除石墨烯/鉬原石上的薄片并評估原石的特性

研發(fā)應用模式形成

由于它結(jié)合了顯微鏡和 DLP，因此可以比現(xiàn)有的無掩模曝光設(shè)備以更低的成本構(gòu)建系統(tǒng)。

易于使用的專用軟件可讓您輕松創(chuàng)建曝光圖案

物鏡的放大倍率可以實現(xiàn)從微小圖案到大范圍的批量曝光。

也可以將其連接到您自己的金相顯微鏡上（根據(jù)條件）

分辨率也可以達到數(shù)微米（數(shù)微米圖案成型）。