日本nalex無(wú)介質(zhì)無(wú)污染超聲波乳化分散機(jī)
日本nalex無(wú)介質(zhì)無(wú)污染超聲波乳化分散機(jī)

原理

特點(diǎn)

1. 無(wú)介質(zhì)分散
   無(wú)需使用玻璃珠等介質(zhì)，僅利用超聲波空化即可高效分散漿料。避免因介質(zhì)帶來(lái)的污染，粒子形狀均一、表面光滑，且不易再團(tuán)聚，實(shí)現(xiàn)潔凈分散。大幅縮短處理時(shí)間，提升性價(jià)比。
2. 兼容批量 & 連續(xù)處理
   從實(shí)驗(yàn)室燒杯批量、通液支架連續(xù)/循環(huán)，到在線連續(xù)生產(chǎn)系統(tǒng)均可對(duì)應(yīng)。
3. Advanced Full-Auto Tuning 控制
   新開(kāi)發(fā)的 Advanced 定振幅電路 + Advanced 自動(dòng)追蹤回路，實(shí)現(xiàn)精度與穩(wěn)定性的飛躍式提升。
   可自動(dòng)應(yīng)對(duì)樣品溫度/粘度變化、泵脈動(dòng)、壓力/流量波動(dòng)等負(fù)荷變動(dòng)，滿足納米分散及無(wú)人值守需求，實(shí)現(xiàn)理想振蕩控制。
4. 大屏背光顯示 + 定時(shí)器 & 溫度限位器
   采用 UP/DOWN 切換數(shù)字定時(shí)器，大屏背光、大字體顯示。
   選配溫度限位器可讀取燒杯或管路傳感器信號(hào)，與定時(shí)器聯(lián)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)過(guò)溫保護(hù)。

用途一覽

• 分散
  墨水、顏料、染料、TiO?、SnO?、ZnO、ITO、Al?O?、鋰、各類陶瓷、Au/Ag/Pt/Ni/Mn/Co、Fe?O?、SiO?、Ce、沸石、Si、PTFE、炭黑、碳晶須、富勒烯、CNT、各種涂布劑、研磨劑、色素等
• 乳化 / Emulsion
  膠粘劑、有機(jī)合成、乳化燃料、乳化食品、水-油體系全般
• 剝離 / 清洗
  積碳燒附剝離、涂層局部剝離、涂膜強(qiáng)度評(píng)估、點(diǎn)清洗、強(qiáng)力清洗
• 聲化學(xué) (Sonochemistry)
  生物柴油(BDF)、催化劑活化、嵌段/接枝共聚、反應(yīng)促進(jìn)
• 其他
  油墨粘度早期穩(wěn)定、色像高穩(wěn)定、粒徑均一化、金屬管去毛刺、成分提取、污泥分解/可溶化、細(xì)胞/細(xì)菌/病毒破碎、過(guò)濾輔助、粉碎前后處理