日本shuwaind秀和晶圓精密拋光鉆石研磨液

日本shuwaind秀和晶圓精密拋光鉆石研磨液
Shuwa Industrial 的鉆石拋光液（Diamond Polishing Liquid）主要用于半導體晶圓的精密拋光工藝，適用于硅（Si）、碳化硅（SiC）、氮化鎵（GaN）等材料，能夠實現(xiàn)鏡面級拋光效果，表面粗糙度 Ra ≤ 0.01 µm 。

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更新時間：2026-01-07
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日本shuwaind秀和晶圓精密拋光鉆石研磨液

Shuwa Industrial 的鉆石拋光液（Diamond Polishing Liquid）主要用于半導體晶圓的精密拋光工藝，適用于硅（Si）、碳化硅（SiC）、氮化鎵（GaN）等材料，能夠實現(xiàn)鏡面級拋光效果，表面粗糙度 Ra ≤ 0.01 µm 。

該產(chǎn)品通常與拋光墊（Polishing Pad）配合使用，通過化學機械拋光（CMP）工藝去除晶圓表面的氧化層、介質層（ILD）和金屬層（如Cu、W），確保表面平整度和低缺陷率，從而提高芯片的良品率和性能。

此外，Shuwa Industrial 的鉆石拋光液支持多種納米級粒徑選擇，適用于不同材料和工藝需求，特別是在第三代半導體材料（如SiC和GaN）的超精密加工中表現(xiàn)好

Render金剛石研磨液長期以來一直用于陶瓷和超硬金屬的高精度、高效率研磨加工。我們可根據(jù)客戶的需求，定制生產(chǎn)原創(chuàng)的研磨劑?金剛石研磨液。

■ 特點
展現(xiàn)原創(chuàng)性
我們可根據(jù)客戶的各種需求，定制生產(chǎn)原創(chuàng)的金剛石研磨液。歡迎隨時咨詢。
值得信賴的穩(wěn)定性
通過將嚴選出的金剛石以獨特方式與研磨液混合，提高了分散效果，使供給到研磨盤上的金剛石量始終保持穩(wěn)定。
優(yōu)異的潤滑性
潤滑性能出色，可實現(xiàn)令人滿意的鏡面精度。

■ 可從豐富類型中選擇
通過類型、粒度等級、金剛石種類、集中度四種組合，為您定制原創(chuàng)研磨液。請從A～D中各選一種。

A. 類型

IRIS（水溶型）
適用于各類化合物半導體晶圓，分散性優(yōu)異，可實現(xiàn)低損傷鏡面加工。
SP-1107（水溶型）
在陶瓷、GaN、SiC 等方面擁有豐富實績，兼顧面精度與研磨速率的研磨液。
TE-0531（油溶型）
新型油劑，分散性更佳。
以上為典型代表，此外還備有20多種型號供不同用途選擇。

B. 粒度等級

C. 金剛石種類

單晶
多晶

D. 集中度

常規(guī)（Regular）
高濃度（Strong）
超高濃度（Super Strong）

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